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SKC solmics CMP研磨墊增設工廠,啟動商業運行

2021-09-03 09:23:30 來源:SKC愛思開希 閱讀量:14578 評論
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  【塑料機械網 明星企業】SKC(代表董事 李完在)的半導體材料、零件專業子公司SKC solmics生產半導體平坦化工藝用核心零件CMP研磨墊(Chemical Mechanical Polishing PAD)的天安工廠開始商業運營。加上原先的安城工廠,SKC solmics的年產能達到18萬張,提高了CMP研磨墊的韓國國產化率。
 
  SKC solmics位于忠南天安的CMP研磨墊2工廠近日開始投入商業運營。去年共投資470億韓元,每年可生產12萬張CMP研磨墊。SKC的半導體材料事業始于2015年,當時共投資200億韓元在安城龍月產業園建造了年產6萬張CMP研磨墊的1工廠,開始了CMP研磨墊事業。此后,隨著需求增加,又新建了2工廠,總產能擴大至原先的三倍。

SKC solmics 天安工廠的CMP研磨墊制造工藝圖片
 
  利用機器人提高產品質量
 
  使用聚氨酯材料生產的CMP研磨墊與CMP研磨液一起經過曝光、蝕刻、沉積工藝,通過機械的、化學的作用對半導體晶圓表面進行研磨,是一種高附加值產品。作為提高半導體集成度所需的核心材料,最近隨著半導體精細化和工程數量增加,使用量有所增加。根據半導體市場調研機構分析,CMP研磨墊的全球市場規模到2023年將達到1.58萬億韓元。
 
  CMP研磨墊市場上兩家美國公司的市場占有率達到90%以上,技術和專利壁壘高,新興企業難以進入,需要調節材料物性和加工晶圓表面的高端技術。SKC半導體材料事業自2015年開始后,在過去聚氨酯事業的技術和經驗基礎上,通過自主研發,在國內外申請了200多項專利,確保了事業競爭力。
 
  SKC solmics是擁有CMP研磨墊原液制造配方的企業,而且具有微米級的CMP研磨墊中可以自由調節加工尺寸和均一度的能力,這意味著可以快速研發并供應達到客戶物性和接觸面要求的CMP研磨墊。
 
  在此基礎上,為CMP研磨墊材料原本大部分依賴于進口的韓國本土生產做出了貢獻。2016年開發用于鎢工藝的研磨墊,替代了客戶使用的進口產品。在韓國率先實現用于銅工藝的研磨墊韓國國產化,最近又成功率先完成了難度高的氧化工藝研磨墊韓國國產化,這提高了韓國國內客戶的CMP研磨墊韓國國產化率。
 
  SKC solmics 有關人士表示:“ 天安工廠生產主要依賴于進口的CMP研磨墊、空白光掩模,成為推動半導體材料國產化的根據地。目前,進行中的海外全球半導體制造商認證評估已經成功完成,我們將進軍全球市場,為強化半導體材料供應鏈做貢獻。”
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